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Hellma材料CaF2晶體193nm
| 產(chǎn)品型號: |
193nm |
| 品 牌: |
Hellma |
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| 所 在 地: |
北京順義區(qū) |
| 更新日期: |
2025-12-24 |
| | 品牌:Hellma | | 型號:193nm | | 加工定制:是 | |
| | 材質(zhì):晶體 | | 顏色:白色 | | 耐溫:20℃ ℃ | |
| | 適用領域:半導體微光刻 | | 顏色:白色 | | 耐溫:20℃ ℃ | |
Hellma材料CaF2晶體
氟化鈣(CaF2Hellma-Materials的一種經(jīng)過驗證的光學材料,具有卓越的性能:
寬頻傳輸:在紫外、可見性和紅外頻段的透射率極佳。
低色散:*大限度地減少色差。
對電離輻射的高抵抗:可用于太空。
低非線性折射率:非常適合高功率激光應用。
大直徑:對于要求較高的應用,*大可達440毫米。
由于起始材料純度高:我們種植大型高純度單晶氟化鈣。
多虧了這些特性,我們的CaF2晶體是下面行業(yè)的選擇:
半導體行業(yè):微光刻光學技術以實現(xiàn)*高精度。
真空技術:堅固的真空窗適合惡劣環(huán)境。
Hellma氟化鈣的優(yōu)點
特色 價值 優(yōu)勢
低折射率 nd=1.43384 非常適合高功率激光應用
低光譜色散 𝜈d=95.23 小化色差
卓越的激光電阻,適用于準分子激光光學 193海里,248海里 激光元件的長使用壽命
從深紫外到紅外范圍的高寬頻傳輸 130nm到8μm 紫外、可見光和紅外波段的透射性能極佳
半成品可用尺寸 大可達440毫米 適用于要求高的應用
Hellma-Materials半成品的優(yōu)勢:
材料尺寸的靈活性:為您的具體需求量身定制解決方案。
優(yōu)化性能:實現(xiàn)*高的光學精度和效率。
可靠性:信任經(jīng)過驗證且使用壽命長的材料。
質(zhì)量控制:所有測量技術均在內(nèi)部進行,包括激光實驗室。
核心光學特性
高寬帶透射率
覆蓋深紫外(130nm)至紅外(8μm)波段,適用于全光譜光學系統(tǒng)。
例如:在準分子激光光學器件(157nm、193nm、248nm)中,HellmaCaF₂的透射率遠超傳統(tǒng)材料,成為行業(yè)標準。
低折射率與低色散
折射率(nd)為1.43384,光譜色散(vd)達95.23,顯著減少光學畸變,提升成像精度。
對比:普通光學玻璃的色散值通常低于60,HellmaCaF₂在色散控制上具有絕對優(yōu)勢。
激光耐久性
在高能激光環(huán)境下(如193nm準分子激光),HellmaCaF₂可承受數(shù)億次脈沖照射而不發(fā)生性能衰減,壽命是普通材料的10倍以上。
環(huán)境適應性
直徑可達420mm的大尺寸晶體,滿足大型光學系統(tǒng)需求。
具備高能粒子輻射耐受性,適用于太空探測等極端環(huán)境。